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臺積電5nm性能曝光,邏輯密度為7納米1.8倍

作者: 編輯: 來源: 發(fā)布日期: 2019.04.09
信息摘要:
晶圓代工龍頭臺積電早前宣布,在開放創(chuàng)新平臺(OeIovatioPlatform,OIP)之下推出5納米設(shè)計架構(gòu)的完整版本,協(xié)助客戶實現(xiàn)支援下…

晶圓代工龍頭臺積電早前宣布,在開放創(chuàng)新平臺(Open Innovation Platform,OIP) 之下推出5 納米設(shè)計架構(gòu)的完整版本,協(xié)助客戶實現(xiàn)支援下一世代先進行動及高效能運算應(yīng)用產(chǎn)品的5納米系統(tǒng)單芯片設(shè)計,目標(biāo)鎖定具有高成長性的5G 與人工智慧市場。

臺積電表示,電子設(shè)計自動化及矽智財領(lǐng)導(dǎo)廠商與臺積電已透過多種芯片測試載具合作開發(fā)并完成整體設(shè)計架構(gòu)的驗證, 包括技術(shù)檔案、制程設(shè)計套件、工具、參考流程以及矽智財。

臺積電指出,目前5 納米制程已進入試產(chǎn)階段,能夠提供芯片設(shè)計業(yè)者全新等級的效能及功耗最佳化解決方案,支援下一世代的高階行動及高效能運算應(yīng)用產(chǎn)品。相較于臺積電公司7 納米制程,5 納米創(chuàng)新的微縮功能在ARM Cortex-A72 的核心上能夠提供1.8 倍的邏輯密度,速度增快15%,在此制程架構(gòu)之下也產(chǎn)生出優(yōu)異的SRAM 及類比面積縮減。

而且,5 納米制程享有極紫外光微影技術(shù)所提供的制程簡化效益,同時也在良率學(xué)習(xí)上展現(xiàn)了卓越的進展,相較于臺積電公司前幾代制程,在相同對應(yīng)的階段,達到了最佳的技術(shù)成熟度。

臺積電進一步指出,完備的5 納米設(shè)計架構(gòu)包括5 納米設(shè)計規(guī)則手冊、SPICE 模型、制程設(shè)計套件、 以及通過矽晶驗證的基礎(chǔ)與介面矽智財,并且全面支援通過驗證的電子設(shè)計自動化工具及設(shè)計流程。在業(yè)界最大設(shè)計生態(tài)系統(tǒng)資源的支持之下,臺積電與客戶之間已經(jīng)展開密集的設(shè)計合作,為產(chǎn)品設(shè)計定案、試產(chǎn)活動與初期送樣打下良好基礎(chǔ)。

當(dāng)前最新的5 納米制程設(shè)計套件目前已可取得用來支援生產(chǎn)設(shè)計,包括電路元件符號、參數(shù)化元件、電路網(wǎng)表生成及設(shè)計工具技術(shù)檔案,能夠協(xié)助啟動整個設(shè)計流程,從客制化設(shè)計、電路模擬、實體實作、虛擬填充、電阻電容擷取到實體驗證及簽核。

臺積電與設(shè)計生態(tài)系統(tǒng)伙伴合作,包括益華國際電腦科技(Cadence)、新思科技(Synopsys)、Mentor Graphics、以及ANSYS,透過臺積電開放創(chuàng)新平臺電子設(shè)計自動化驗證專案來進行全線電子設(shè)計自動化工具的驗證,此驗證專案的核心涵蓋矽晶為主的電子設(shè)計自動化工具范疇,包括模擬、實體實作(客制化設(shè)計、自動布局與繞線) 、時序簽核(靜態(tài)時序分析、電晶體級靜態(tài)時序分析) 、電子遷移及壓降分析(閘級與電晶體級) 、 實體驗證 (設(shè)計規(guī)范驗證、電路布局驗證) 、以及電阻電容擷取。

       而透過此驗證專案,臺積電與電子設(shè)計自動化伙伴能夠?qū)崿F(xiàn)設(shè)計工具來支援臺積電5 納米設(shè)計法則,確保必要的準(zhǔn)確性,改善繞線能力,以達到功耗、效能、面積的最佳化,協(xié)助客戶充分利用臺積電公司5 納米制程技術(shù)的優(yōu)勢。

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