電子束光刻機將用于芯片量產？
近日，一些媒體報道了英國部署電子束光刻機相關的新聞，并號稱打破ASML的EUV技術壟斷。部分報道甚至號稱這是全球第二臺電子束光刻機，能繞過ASML。實際上當前沒有任何信息表面該電子束曝光機可以用于5nm制程的芯片量產的光刻環節。在這些媒體的報道中，英國似乎已經拳打ASML，腳踢EUV了。
那事實真的如此嗎？實際情況到底如何呢？
英國部署全球第二臺200kV電子束光刻設備
實際上，英國南安普敦大學宣布的是，成功開設了日本以外首個分辨率達5納米以下的尖端電子束光刻(EBL)中心，可以制造下一代半導體芯片。這也是全球第二個，歐洲首個此類電子束光刻中心。
據介紹，該電子束光刻中心采用了日本JEOL的加速電壓直寫電子束光刻(EBL)系統，這也是全球第二臺200kV系統（JEOL JBX-8100 G3）（第一臺在日本），其可以在200毫米晶圓上實現低于5納米級精細結構的分辨率處理。這可以在厚至10微米的光刻膠中實現，且側壁幾乎垂直，可用于開發電子和光子學領域研究芯片中的新結構。JEOL的第二代EBL設備——100kV JEOL JBX-A9 將計劃用于支持更大批量的300毫米晶圓。
目前JEOL的加速電壓直寫電子束光刻系統（JEOL JBX-8100 G3）已經安裝在了南安普頓大學蒙巴頓綜合大樓內一個專門建造的820平方米潔凈室內。
英國科學部長帕特里克·瓦蘭斯勛爵（Lord Patrick Vallance）表示：“英國是世界上一些最令人興奮的半導體研究的所在地，南安普敦的新電子束設施極大地提升了我們的國家能力。通過投資基礎設施和人才，我們為研究人員和創新者提供了在英國開發下一代芯片所需的支持。”
“我們非常榮幸成為日本以外首個擁有這套新一代200千伏電子束光刻系統的機構。南安普頓大學在電子束光刻領域擁有超過30年的經驗，”南安普頓大學馬丁·查爾頓教授說道。“這將有助于推動量子計算、硅光子學和下一代電子系統領域的發展。這套設備與我們現有的微加工設備套件相得益彰，使我們能夠研發和生產各種用于電子、光子學和生物納米技術的集成納米級器件。”
Graham Reed 教授補充道：“新電子束設施的引入將加強我們在英國學術界擁有最先進的潔凈室的地位。它促進了大量創新和工業相關的研究，以及急需的半導體技能培訓。”
Graham Reed教授補充道：“新電子束設施的引入將加強我們在英國學術界擁有最先進的潔凈室的地位。它促進了大量創新和工業相關的研究，以及急需的半導體技能培訓。”
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